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Source de rayons X Microfocus 2 µm 110 kV pour tests CND de circuits imprimés électroniques

Source de rayons X Microfocus 2 µm 110 kV pour tests CND de circuits imprimés électroniques

Nom De La Marque: HAMAMATSU
Numéro De Modèle: L12531
MOQ: 1
Conditions De Paiement: T/T
Informations détaillées
Lieu d'origine:
Japon
Certification:
CE, FDA
Matériau cible:
Tungstène
Nom de marque:
Hamamatsu
Lieu d'origine ::
Japon
Détails d'emballage:
Carton
Méthode de communication:
Interface : RS-232C (connecteur Sub-D à 9 broches)
Mettre en évidence:

Source de rayons X Microfocus pour tests de circuits imprimés

,

Source de rayons X Hamamatsu 110 kV

,

Source de rayons X 2 µm pour CND

Description du produit
HAMAMATSU L12531 Microfocus Source de rayons X
Source de rayons X à microfocus avancée offrant une haute résolution de 2 μm avec un angle de faisceau large de 120° et une conception scellée sans entretien.Idéal pour l'inspection des PCB électroniques de précision et les essais non destructifs.
Principales caractéristiques techniques
  • Grand angle du faisceau de rayons X: couverture de 120°
  • Conception d'une source de rayons X à microfocus scellé sans maintenance
  • Haute résolution: 2 μm à 2 W avec cible de transmission
  • Grand grossissement avec 1 mm FOD (Focus to Object Distance)
Applications principales
  • Scanner et tomographie par rayons X
  • Inspection et essais non destructifs
Objectifs de contrôle compatibles
  • Composants et ensembles électroniques
  • Composants et matériaux en plastique
  • Composants et structures métalliques
  • autres appareils pour la fabrication de circuits imprimés (PCB)
HAMAMATSU L12531 Microfocus X-Ray Source close-up view
Microfocus Source de rayons X Proximité
X-ray beam angle demonstration diagram
Diagramme de l'angle du faisceau de 120°
High resolution imaging example
Exemple d'imagerie haute résolution
Maintenance-free design features
Caractéristiques de conception sans entretien
Industrial application scenario
Scénario d'application industrielle